ДОСЛІДЖЕННЯ ПАРАМЕТРІВ ПЛАЗМИ ПРИ ЕЛЕКТРОІСКРОВОМУ НАНЕСЕННІ СРІБНИХ ПОКРИТТІВ

В.Д.Курочкін,
  
Л.О.Крячко,
  
В.В.Пух
 

Інститут проблем матеріалознавства ім. І. М. Францевича НАН України , вул. Омеляна Пріцака, 3, Київ, 03142, Україна
Порошкова металургія - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2008, #11/12
http://www.materials.kiev.ua/article/1329

Анотація

Спектроскопічними вимірюваннями та за допомогою математичної моделі досліджено склад і параметри іскрової плазми при нанесенні електроіскрових покриттів за допомогою установки “Елітрон-22”. Виміряно ефективну температуру та електронну концентрацію на осі розряду при максимальному значенні імпульсу струму. Показано, що при нанесенні покриття за допомогою композиційних електродів Ag-C та Ag інтенсивності спектральних ліній атомів та однозарядних іонів пропорційні швидкості ерозії анода. Розраховано тиск в імпульсі у струмовому каналі з урахуванням пінч-ефекту (~1 МПа). Показано, що ефективна температура матеріалу у зоні анодної плями відповідає температурі кипіння срібла при знайденому тиску (~3200-3300 К). За допомогою математичної моделі досліджено вплив швидкості випаровування матеріалу анода і потужності розряду на концентрацію електронів, атомів та іонів матеріалу анода, інтенсивності їх спектральних ліній. Запропонований метод дає можливість оцінити ефективність переносу в паровій фазі при електроіскровому нанесенні покриттів. Розроблено методику спектрального визначення вмісту вуглецю в композиційному матеріалі Ag-C з використанням двозарядних іонів срібла та вуглецю.


ЕЛЕКТРОІСКРОВІ ПОКРИТТЯ, МАТЕМАТИЧНЕ МОДЕЛЮВАННЯ, ПАРАМЕТРИ, ПЛАЗМА, СПЕКТРОСКОПІЧНІ ВИМІРЮВАННЯ, СРІБЛО