ВПЛИВ РЕЖИМІВ НАПИЛЕННЯ ТА ОСОБЛИВОСТЕЙ ВИГОТОВЛЕННЯ КОМПОЗИЦІЙНИХ ПОРОШКІВ СИСТЕМИ НІКЕЛЬ–ГРАФІТ НА СТРУКТУРУ ТА ХІМІЧНИЙ СКЛАД ПЛАЗМОВИХ ПОКРИТТІВ

Анотація

Розглянуто вплив технологічних особливостей виготовлення та режимів нанесення порошку графіту НПГ-75, плакованого нікелем, на структуру та склад плазмових покриттів. Вихідний порошок НПГ-75 складається з графіту (25% (мас.)) та нікелевої оболонки (75% (мас.)). При плазмовому напиленні порошку НПГ-75 вміст гра­фіту в покриттях значно зменшується і не перевищує 4% (мас.). Розглянуто декілька причин зменшення вмісту графіту в покриттях. Вплив режимів нанесення досліджено на порошку, виготовленому за технологією обкатування. Такий порошок утворений вкритими нікелем конгломерованими частинками графіту. Встановлено, що при нанесенні покриттів із конгломерованого плакованого порошку зміна потужності плазмотрону у межах 20–29 кВт та дистанції напилення у межах 80–300 мм не має істотного впливу і не призводить до збільшення вмісту графіту в покритті. За потужності нижче 20,4 кВт покриття з НПГ-75КП не формується. Оптимальними режимами для нанесення покриття є потужність плазмотрона 24–25 кВт і дистанція напилення 160 мм. Вміст графіту в покритті при такому режимі максимальний — 5,3% (мас.), проте це значно нижче, ніж у вихідному порошку (25% (мас.)). Найкращі результати показали плазмові покриття, сформовані з композиційного порошкового матеріалу НПГ-75, отриманого без обкатування з плакуванням суцільних зерен графіту. Навіть при гіршій якості нікелевої плакуючої оболонки, нанесеної автоклавним методом, в покритті вдалося отримати близько 24% (мас.) графіту. При цьому оптимальні режими напилення такі самі, як і для конгломерованого НПГ-75. Проведені дослідження дозволили визначити принципову важливість методів підготовки вихідного матеріалу для збереження вмісту графіту в плазмових композиційних покриттях системи Ni–C