Конференції

Вакансійне розпухання хрому

В.В.Огородніков
 

Інститут проблем матеріалознавства ім. І. М. Францевича НАН України , вул. Кржижановського 3, Київ, 03142, Україна
Математичні моделі і обчислювальний експеримент в матеріалознавстві - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2011, #13
http://www.materials.kiev.ua/article/527

Анотація

Розглянуто основні диференціальні рівняння, що описують кінетику накопичення вакансій і вакансійної пористості в матеріалах, опромінюваних потоками швидких частинок в ядерних реакторах або прискорювачах. Отримано феноменологічні співвідношення для розрахунку температурно-дозних залежностей вакансійного розпухання матеріалів в широкому інтервалі температур і доз опромінення. Представлено результати подібного розрахунку для малолегованого хрому при опроміненні в прискорювачі іонами Cr3+ і проведено порівняння з експериментальними даними.


ВАКАНСІЙНЕ РОЗПУХАННЯ, ОПРОМІНЕННЯ МАТЕРІАЛІВ, ТЕМПЕРАТУРНО-ДОЗНІ ЗАЛЕЖНОСТІ, ФЕНОМЕНОЛОГІЧНІ СПІВВІДНОШЕННЯ