Конференції

Кінетика росту наноплівки SIО2 на поверхні MOSI2 при анодній поляризації

В.О.Лавренко,
 
В.О.Лавренко,
 
А. Д.Чиркин,
  
А.Д.Панасюк
 

Інститут проблем матеріалознавства ім. І. М. Францевича НАН України , вул. Кржижановського 3, Київ, 03142, Україна
Порошкова металургія - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2008, #01/02
http://www.materials.kiev.ua/article/696

Анотація

Досліджено кінетику росту плівки кремнезему на поверхні MoSi2 при анодній поляризації. Показано, що анодне окислення MoSi2 в 3%-вому розчині NaCl є багатостадійним процесом. Методом оже-електронної спектроскопії встановлено, що в області потенціалів 1,5-2,0 В на поверхні MoSi2 зростає виключно оксид кремнію, в той час як молібден повністю переходить в електроліт. Кінетику росту плівки SiО2 вивчали методом хронамперометрії при постійних значеннях потенціалу. Отримано кінетичні криві, що мають дві ділянки. На першій швидкість реакції (щільність струму) зменшується на порядок протягом декількох хвилин, коли починає формуватися наноплівка кремнезему. Потім встановлюється контрольований дифузією процес, який описується параболічною залежністю. В цілому модель, що описує утворення оксидної наноплівки на поверхні дисиліциду молібдену, узгоджується з теорією Мотта-Кабрера, запропонованої раніше для процесів високотемпературного окислення.


АНОДНЕ ОКИСЛЕННЯ, ДИФУЗІЯ, ДІСИЛІЦИД МОЛІБДЕНУ, ПАРАБОЛІЧНА КІНЕТИКА, ПЛІВКА SIО2, ТЕОРІЯ МОТТА-КАБРЕРА