ВПЛИВ АКТИВАЦІЇ ПОВЕРХНІ НАНОЧАСТИНОК MoS2 НА ХІМІЧНЕ ОСАДЖЕННЯ НА НИХ НІКЕЛЮ

Сіддхарт П.Ешвар,
 
П.Аравінд,
 
K.Дханапал,
 
Н.Арункумар,
 
A.Стівен
 

Порошкова металургія - Київ: ІПМ ім.І.М.Францевича НАН України, 2018, #11/12
http://www.materials.kiev.ua/article/2692

Анотація

Поверхню частинок MoS2 покрито нікелем за допомогою методу хімічного осадження з урахуванням його відносної ефективністі й економічності. Синтезовано два зразки MoS2, один з яких був активований (ультразвуковим диспергируванням впродовж 30 хв у попередньо витриманій впродовж 24 год ванні, що містила 0,1 M SnCl2 та 0,1 M HCl). Вивчено вплив процесу активації на структуру покритих нікелем частинок MoS2. Встановлено, що безпосередньо після осадження на дифрактограмах обох зразків(активованих і неактивованих) фаза Ni відсутня, тоді як у відпалених зразках Ni присутній у ГЦК-фазі поряд з фазою MoS2. Методом полевої емісійної сканувальної електронної мікроскопії досліджено морфологію поверхні всіх зразків. Виявлено, що ультразвукова обробка поверхні частинок MoS2 сприяє формуванню однорідного покриття, тоді як неактивований зразок має нерівномірне нікелеве покриття.


АКТИВАЦІЯ ПОВЕРХНІ, МОРФОЛОГІЯ ПОКРИТТЯ, ХІМІЧНЕ ОСАДЖЕННЯ