ВИКОРИСТАННЯ ЕЛЕКТРОННО-ПРОМЕНЕВОГО МЕТОДУ ОБРОБКИ ДЛЯ ВІДШАРУВАННЯ ПЛАСТИН МАЛОЇ ТОВЩИНИ З ПОВЕРХНІ ОПТИЧНОГО МАТЕРІАЛУ

Анотація

В статті представлені результати досліджень з термічної обробки низькоенергетичними електронами (енергія електронів Е≤6 кеВ) поверхні силікатного скла у вакуумі, за якою відбувається оплавлення поверхневого шару. За певних умов обробки відбувається відшарування поверхні у вигляді пластин товщиною 0,1...1,2 мм. Відшарована поверхня відрізняються покращеною хімічною однорідністю, покращеним залишковим нанорельєфом, змінним показником заломлення. Такі пластини мають перспективу для використання в мікрооптиці (МО), інтегральній оптиці (ІО) та волоконній оптиці (ВО).